دانلود مقاله طراحی و ساخت دستگاه کندوپاش مغناطیسی جریان مستقیم با دو تارگت استوانه ای pdf دارای 11 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد دانلود مقاله طراحی و ساخت دستگاه کندوپاش مغناطیسی جریان مستقیم با دو تارگت استوانه ای pdf کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.

این پروژه توسط مرکز مرکز پروژه های دانشجویی آماده و تنظیم شده است

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ریختگی احتمالی در متون زیر ،دلیل ان کپی کردن این مطالب از داخل فایل ورد می باشد و در فایل اصلی دانلود مقاله طراحی و ساخت دستگاه کندوپاش مغناطیسی جریان مستقیم با دو تارگت استوانه ای pdf ،به هیچ وجه بهم ریختگی وجود ندارد

بخشی از متن دانلود مقاله طراحی و ساخت دستگاه کندوپاش مغناطیسی جریان مستقیم با دو تارگت استوانه ای pdf :

سال انتشار: 1385

محل انتشار: هفتمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: 11

چکیده:

دستگاه کندوپاش مغناطیسی با دوتارگت جهت تهیه لایه های نازک چند پشته به ویژه لایه های نازک جاذب انرژی خورشیدی (سرمت) طراحی و ساخته شد . این دستگاه از اجزاء و قسمت های مختلفی شامل
محفظه استوانه ای و تجهیزات آن، دو تارگت استوانه ای (کاتد) و تجهیزات مربوط به آن و نگهدا رنده زیر لایه و اجزاء آن تشکیل شده است. محفظه خلاء استوانه ای از جنس فولاد زنگ نزن با طول 650 و قطر داخلی 550 میلی متر است . این سیستم لایه نشانی شامل دو تارگت استوانه ای به طول 550 و قطر 50 میلیمتر میباشد که به طور مستقل عمل می کنند. داخل هر تارگت لوله ای، آهنرباهائی دائمی حلقوی شکل با شدت میدان مغناطیسی 290 گوس قرار دارند . در طی عمل لایه نشانی زیر لایه ها روی نگهدارنده نصب میگردند و برای تشکیل پوشش های یکنواخت زیرلایه ها به دور محور محفظه می چرخند . چرخش نگهدارنده زیرلایه ها توسط موتوری با دور متغیر و قابل تنظیم (18-3 دور در دقیقه) انجام میگیرد . جهت تغذیه سیستم پراکنش از دو منبع تغذیه با ورودی سه فاز برق شهر و خروجی DC منفی با ولتاژ قابل تنظیم 1000V- و جریان حداکثر 12A آمپر استفاده میشود. طراحی منبع تغذیه مخصوص محیط پلاسما بوده و به گونه ای است که در موقع عمل لایه نشانی دارای پایداری در توان بالا و ثبات ولتاژ خروجی در حین کار و عملکرد مناسب در مقابل جریان های لحظه ای شدید است . چند لایه های نازک آلومینیم و مس روی زیرلایه های شیشه ای در فشا ر 1 پاسکال و جریان کاتد 4 آمپر و ولتاژ کاتد 600 ولت انباشت شده است . آنالیزهای پراش اشعه ایکس (XRD) و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) برای تعیین فازهای کریستالی و مطالعه مرفولوژی لایه ها مورد استفاده قرار گرفته است . پروفایل عناصر توسط دستگاه اسپکتروسکوپی نشری تخلیه نورانی (GD-OES) تعیین گردیده است.